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日本新加坡宣布联合研制3D硅晶体管

  【IT168 资讯】日本研发企业Unisantis与新加坡微电子学院宣布签署合作协议,双方将在未来两年内共同研发新型的3D硅晶体管,该项目的领衔人是Unisantis首席技术官Fujio Masuoka,他是闪存技术的发明者。

  新的3D晶体管被称为“环绕栅极晶体管”(Surrounding Gate Transistor,SGT),以垂直放置的硅柱为核心,周围环绕着存储单元、电气触点以及其他一些尚未命名的部件。与目前水平放置的晶体管架构相比,SGT将大大减少电子流动的距离、降低发热量、缩减成本。

  就晶体管面积和处理速度方面而言,SGT还将大大延伸硅半导体技术的发展,将理论极限推迟三十年以上。公司表示,对于新一代集成电路芯片的研发来说,这种改进是非常必要的,它将充分满足日趋强大和复杂的IT产品和计算网络所需要的计算能力。

  双方合作的目标是将其速度提升至20-50GHz,这是目前水平的十多倍。

签署协议

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